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硬鉻電鍍工藝的特點及鍍液的配製



硬鉻電鍍工藝的特點及鍍液的配製:

一 特點

  1、高陰極電流效率,可達22~30%。

  2、高沉積速度,一般是傳統鍍鉻的2~3倍。

  3、不會腐蝕陰極低電流密度區的底材。

  4、鍍層硬度達HV900~1200。

  5、微裂紋數達1000條/寸。

  6、鍍層厚度均勻,有良好的分散能力。

  7、鍍液維護容易,控製簡單。

  8、無固體添加之鉻塵和濺水現象。

  9、無陽極腐蝕,勿須使用特殊陽極。

二、硬鉻電鍍鍍液的配製

  1、在槽中放入2/3的去離子水,按上表計算,將所需的鉻酸、硫酸加入鍍槽中。

  2、再將HA高效硬鉻光亮劑Q加入鍍槽,添加去離子水,至所需之液位高度。

  3、加熱至55~60℃。

  4、分析硫酸濃度、鉻酸濃度,並調整至工藝規範。

  5、電解4~6小時。

  6、開始作業。

三、轉缸與前處理

  由一般傳統的硬鉻電鍍鍍液轉為HA全光亮硬鉻工藝的程序非常簡單,隻須將鍍液送交本公司化驗,經確定無機雜質不超過7.5克/升,同時不含氟化物、稀土、磺酸類低溫添加劑,則本公司將協助客戶將鍍液轉成HA全光亮硬鉻工藝。

  HA全光亮硬鉻工藝之前處理與一般傳統硬鉻電鍍相同,無需經過特殊程序的處理。

四、設備

  鍍槽(缸):鐵槽內襯軟式PVC槽襯或其它認可材料如Koroseal均可。

  陽極:含7%錫的鉛陽極,其他如鉛錫、鉛銻陽極亦可使用。

  整流器:輸出功率需達到9~15伏特較為適當,同時輸出電流之波紋應在5%以下。

  溫度控製:熱交換器或冷卻盤管,建議使用鈦管或金屬管披覆鐵弗龍(Teflon)或碳氟化物(PVDF)為佳,也可用塑料加強管代用。

五、硬鉻電鍍添加劑的作用與補給

  HA高效硬鉻光亮劑(補)以每1000安培小時6毫升補加。

  或每添加1公斤鉻酸補加40毫升HA高效硬鉻光亮劑(補)

  鉻酸以每1000安培小時添加120~150克。

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